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Sensofar三維共聚焦輪廓儀表面形貌檢測利器

產(chǎn)品簡介

Sensofar三維共聚焦輪廓儀表面形貌檢測利器
Sensofar S neox Five Axis在標準S neox基礎上升級五軸運動控制系統(tǒng),支持樣品臺傾斜與旋轉(zhuǎn),可測量復雜曲面與側(cè)壁結(jié)構(gòu)。

產(chǎn)品型號:S neox
更新時間:2025-10-21
廠商性質(zhì):代理商
訪問量:168
詳細介紹在線留言

產(chǎn)品細節(jié)
針對半導體行業(yè)需求,Sensofar S neox提供亞納米級縱向分辨率與微米級橫向分辨率,支持晶圓表面平整度、薄膜厚度及微納結(jié)構(gòu)形貌測量。設備配備真空吸附載物臺,可固定12英寸晶圓,避免測量過程中樣品移動。Sensofar三維共聚焦輪廓儀表面形貌檢測利器

產(chǎn)品性能

  • 晶圓檢測:白光干涉模式可檢測納米級臺階高度,適用于光刻膠涂層厚度均勻性分析。

  • 缺陷識別:AI多焦面疊加技術自動過濾噪聲,識別微米級表面缺陷。

  • 自動化流程:支持SECS/GEM協(xié)議,可與半導體產(chǎn)線MES系統(tǒng)無縫對接。

用材與參數(shù)表

參數(shù)項規(guī)格
晶圓尺寸最大12英寸
臺階高度測量范圍1.5μm-10mm
薄膜測量精度±0.5nm
通信協(xié)議SECS/GEM、RS-232


型號與用途

  • 型號:S neox(半導體專用配置)

  • 應用領域:晶圓表面平整度檢測、3D NAND閃存堆疊結(jié)構(gòu)形貌分析、芯片封裝貼合度驗證。

使用說明

  1. 晶圓裝載:將晶圓放置于真空吸附臺,啟動抽真空功能固定樣品。

  2. 區(qū)域選擇:在軟件中劃定測量區(qū)域,支持全晶圓掃描或局部抽檢。

  3. 厚度分析:利用干涉模式測量薄膜厚度,生成厚度分布熱力圖。

  4. 數(shù)據(jù)反饋:將測量結(jié)果上傳至MES系統(tǒng),觸發(fā)產(chǎn)線分選或返修流程。

  5. Sensofar三維共聚焦輪廓儀表面形貌檢測利器

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