白光干涉儀S neox的臺(tái)階高度測(cè)量

在微電子、MEMS、材料涂層等領(lǐng)域，精確測(cè)量薄膜厚度、刻蝕深度、階梯高度等是常見(jiàn)的計(jì)量需求。這些測(cè)量本質(zhì)上都是臺(tái)階高度測(cè)量，即精確量化表面兩個(gè)不同區(qū)域之間的垂直距離。臺(tái)階高度測(cè)量對(duì)垂直方向的分辨率和準(zhǔn)確性提出了要求。Sensofar S neox 3D光學(xué)輪廓儀的白光干涉模式在這方面能發(fā)揮其作用。

白光干涉儀測(cè)量臺(tái)階高度的原理基于其垂直掃描特性。當(dāng)儀器進(jìn)行Z向掃描時(shí)，它會(huì)記錄下每一像素點(diǎn)干涉條紋對(duì)比度最高的位置，該位置對(duì)應(yīng)于此點(diǎn)的高度信息。對(duì)于一個(gè)理想的臺(tái)階，在臺(tái)階的上表面和下表面，干涉極大值會(huì)出現(xiàn)在不同的Z軸位置，這兩個(gè)位置之差即為臺(tái)階高度。

S neox進(jìn)行臺(tái)階高度測(cè)量的優(yōu)勢(shì)包括：

1.非接觸：避免了對(duì)柔軟、脆弱樣品表面的潛在損傷。

2.高垂直分辨率：白光干涉模式能夠?qū)崿F(xiàn)亞納米級(jí)別的垂直分辨率，適合測(cè)量從納米到數(shù)百微米范圍的臺(tái)階高度

3.快速：一次掃描即可獲得整個(gè)視場(chǎng)內(nèi)的三維形貌，從而可以同時(shí)測(cè)量視場(chǎng)內(nèi)多個(gè)臺(tái)階的高度，或?qū)σ粋€(gè)臺(tái)階進(jìn)行多次測(cè)量取平均值，提高統(tǒng)計(jì)可靠性。

4.直觀：三維形貌圖可以直觀顯示臺(tái)階的形狀、陡直度以及底部的平整度等情況，而不僅僅是單個(gè)高度值。

測(cè)量時(shí)，用戶通常先使用低倍物鏡定位待測(cè)臺(tái)階，然后切換至合適倍率的物鏡，確保臺(tái)階清晰地位于視場(chǎng)中。啟動(dòng)測(cè)量后，儀器自動(dòng)完成掃描。在數(shù)據(jù)分析階段，用戶可以在三維形貌圖上輕松劃定臺(tái)階的上表面和下表面區(qū)域，軟件會(huì)自動(dòng)計(jì)算這些區(qū)域的平均高度差，并給出統(tǒng)計(jì)結(jié)果（如平均值、標(biāo)準(zhǔn)差）。用戶也可以繪制截面輪廓線，直接在線條上測(cè)量高度差。

為了獲得準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果，需要注意樣品的放置（盡量使表面水平）、選擇合適的掃描范圍以及確保臺(tái)階邊緣清晰可辨。對(duì)于高深寬比的臺(tái)階，可能需要高倍物鏡來(lái)獲得更清晰的邊緣信息。S neox提供的多種物鏡選擇和自動(dòng)校準(zhǔn)功能，有助于滿足不同尺寸臺(tái)階的測(cè)量需求。

因此，Sensofar S neox為微米和納米尺度的臺(tái)階高度測(cè)量提供了一種高效、直觀且能提供豐富周邊信息的解決方案，適用于工藝流程控制和研發(fā)分析。

白光干涉儀S neox的臺(tái)階高度測(cè)量